真空氣氛箱式爐LFM1200C-7.2VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。

真空箱式爐LFM1200C 91VC系列用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。

真空氣氛箱式爐 LFM1200C 64VC用于在1100℃下半導體器件、金屬材料的熱處理和還原性燒結等工藝，也可用于產(chǎn)品的炭化試驗。該爐采用電阻絲加熱，PID程序控溫儀控制，溫控儀可設定30 段升溫曲線、PID控制參數(shù)自整定、并具有斷偶、超溫報警保護等功能。

高溫熱處理設備是一款小型混合箱式/管式爐，作為單純的箱式爐可對樣品在空氣環(huán)境下進行熱處理，作為管式爐可對樣品在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理

LMF系列真空氣氛箱式爐如圖所示,集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁纖維材料，采用進口合金電阻絲為加熱元件。是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)對金屬，非金屬及其它化合物材料進行燒結﹑融化﹑分析而研制的專用設備。

高溫高壓合成爐設備是根據(jù)SHS技術發(fā)展的新動向而研制的，采用了許多較新的科技成果，集許多功能于一身，設計使用性能優(yōu)良，具有很好的應用前景和使用價值。

多面加熱箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，工作溫度能達到1100℃，可連續(xù)工作1000℃，控溫精度±1℃；大功率為1KW, 同時設有通氣接口，可用于氧氣或惰性氣體下使用。該爐具有體積小、重量輕、溫場均衡、升降溫度速率快、節(jié)能 等優(yōu)點，此外，該款設備還可放置到手套箱內(nèi)在真空和可控氣氛條件下燒結樣品，是高校、科研院

定制箱式爐是以電阻絲為加熱元件、采用K型熱電偶和30段可編程溫度控制器。爐膛采用高質量氧化鋁微晶體纖維材料，工作溫度能達到1100℃，可連續(xù)工作1000℃，控溫精度±1℃；大功率為1KW, 同時設有通氣接口，可用于氧氣或惰性氣體下使用。該爐具有體積小、重量輕、溫場均衡、升降溫度速率快、節(jié)能 等優(yōu)點，此外，該款設備還可放置到手套箱內(nèi)在真空和可控氣氛條件下燒結樣品，是高校、科研院