LFT1200C開啟式單溫區(qū)管式爐 適合較高溫度條件下材料燒結處理，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。

LFT1600C高溫真空管式爐 適合較高溫度條件下材料燒結處理，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。

LFT系列高溫真空回轉爐 該設備容許粉末樣品在高溫狀態(tài)下動態(tài)燒結處理，配備磁流體密封裝置，使得整個設備處于真空狀態(tài)下工作。特殊樣品倉結構設計，避免傳統(tǒng)回轉爐取樣等繁瑣操作，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在高溫真空添加下處理粉末材料的理想設備

1400系列真空管式回轉爐 該設備采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

1200系列三溫區(qū)真空管式爐 采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，該設備設計為與手套箱對接使用，樣品可*處于相對對立的無水無氧環(huán)境

LFT系列雙溫區(qū)真空管式爐采用雙層風冷結構，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。

LFT系列真空退火爐 該設備爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場的均勻性。

雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)（含預熱器） 雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備